Octrooi voor “Exposure apparatus, exposure method, and method for producing a device” deels vernietigd
23-08-2018 Print this page
Dat buitenlandse rechters bij uitsluiting bevoegd zijn te oordelen over buitenlandse delen EP 595 leidt niet tot onbevoegdheid Nederlandse rechter m.b.t. grensoverschrijdende vordering inzake onrechtmatige daad door (kort gezegd) het betrokken zijn bij octrooi-inbreuk buiten Nederland: Rb moet wel oordeel buitenlandse rechters afwachten. Conclusie 1 EP 595 niet inventief in licht van US 165 gecombineerd met algemene vakkennis. US 165 is reëel uitgangspunt: zowel het octrooi als US 165 richten zich op hetzelfde technische (en specialistische) vakgebied van lithografiemachines voor (micro)chips en zien beide op temperatuurbeheersing (van de wafer/waferhouder). Objectieve technische probleem: “Hoe kan de resolutie van de lithografiemachine van US 165 worden verbeterd?” Vakman zou probleem oplossen door temperatuuraanpassings-eenheid als bedoeld in conclusie 1 op te nemen: algemene vakkennis dat immersielithografie de meest veelbelovende weg was om de resolutie te verbeteren, in de markt bestond duidelijk een voorkeur voor immersielithografie van het local fill principe en vakkennis dat de temperatuur van het local fill immersiewater zeer precies beheerst moest worden door een temperateratuurbeheersing-eenheid. Volgconclusies 2, 3, 5 t/m 8 en 16 t/m 20 niet inventief: zien op aanvullende kenmerken die in wezen zien op het voorkomen van warmteoverdracht tussen immersiewater en wafer, hetgeen tot algemene vakkennis behoort. Conclusie 21 niet inventief, ondanks dat pas ter zitting geldigheid is betwist: door Nikon niet aangegeven dat zij in verdediging is geschaad. Nederlandse deel EP 595 gedeeltelijk vernietigd: niet toegelicht waarom de overige conclusies vernietigd moeten worden.
Nikon is houdster van octrooi EP 595 voor “Exposure apparatus, exposure method, and method for producing a device”. Nikon stelt dat ASML met alle versies van haar immersie-litographiemachines van het type XT en NXT inbreuk maakt op haar octrooi. Deze zaak betreft de eerste zaak van elf zaken.
Met betrekking tot de bevoegdheid overweegt de rechtbank dat hij internationaal bevoegd is om kennis te nemen van de vorderingen in conventie op grond van artikel 4 Brussel I-bis Vo, nu ASML gevestigd is in Nederland. De bevoegdheid strekt zich in beginsel uit tot grensoverschrijdende maatregelen. Bevoegdheid ten aanzien van de reconventionele vordering tot vernietiging van EP 595 bestaat op grond van artikel 24(4) Brussel I-bis Vo. Hoewel ASML er terecht op wijst dat op grond van artikel 24(4) Brussel I-bis andere rechters dan de Nederlandse rechter bij uitsluiting bevoegd zijn een oordeel te geven over nietigheid van de buitenlandse delen van EP 595, leidt dit er niet toe dat de rechtbank zich ten aanzien van de grensoverschrijdende vordering tot het onrechtmatig handelen door het betrokken zijn bij octrooi-inbreuk buiten Nederland onbevoegd dient te verklaren. Voor die vordering is een oordeel over de geldigheid van de buitenlandse octrooien vereist, zodat de rechtbank het oordeel van de exclusief bevoegde buitenlandse rechters over de geldigheid moet afwachten, indien Nikon verzoekt om aanhouding. Dat is (voorwaardelijk) gedaan, zodat de rechtbank de beoordeling ten aanzien van de buitenlandse delen aanhoudt. De Nederlandse rechter is echter wel bevoegd ten aanzien van de gevorderde provisionele maatregelen, waarbij naar Solvay v Honeywell (IEPT20120712) wordt verwezen.
Het octrooi dat in deze zaak centraal staat, EP 595, ziet op een immersiemachine van het local fill type die onder meer is voorzien van een temperatuuraanpassingssysteem om ervoor te zorgen dat de temperatuur constant blijft. De rechtbank past de PSA-methode toe en oordeelt dat conclusie 1 van EP 595 niet inventief is vanuit US 165 gecombineerd met algemene vakkennis. De rechtbank acht US 165 een reëel uitgangspunt, aangezien zowel het octrooi als US 165 zich richten op hetzelfde technische (en specialistische) vakgebied, namelijk lithografiemachines voor kort gezegd (micro)chips en beide bovendien zien op temperatuurbeheersing (van de wafer/waferhouder). Het betoog van Nikon dat de stand van de techniek die ziet op een droge immersiemachine nooit als uitgangspunt kan dienen voor de beoordeling van een octrooi dat ziet op immersielithogragfie wordt verworpen. Dit zal zich voor de PSA moeten vertalen in verschilkenmerken. Ook wordt in aanmerking genomen dat door ASML onbestreden is aangevoerd dat de op dat moment belangrijkste bedrijven op de lithografiemarkt hun eerste local fill immersiemachines hebben gebouwd uitgaande van een droge machine.
Het objectieve technische probleem is volgens de rechtbank: “Hoe kan de resolutie van de lithografiemachine van US 165 worden verbeterd?” De verschilkenmerken zijn als volgt:
1.a An exposure apparatus configured for exposing a substrate by radiating an exposure light beam onto the substrate through a liquid of a liquid immersion area formed on a portion of a surface of the substrate, the exposure apparatus comprising:
1.d a flow passage forming member (70) which has liquid supply ports (12A,12B) arranged to be opposite to, in use, the surface of the substrate (P) and liquid recovery ports (22A,2B) arranged to be opposite to, in use, the surface of the substrate; and
1.e a temperature adjustment system (60) arranged for adjusting temperature of the substrate-holding member (PH) and temperature of the liquid (LQ) to be supplied from the liquid supply ports of the flow passage forming member,
1.g characterized in that the temperature adjusting system has a second temperature adjusting unit (62) arranged for adjusting the temperature of the substrate-holding member.
De oplossing van dit probleem ligt volgens de rechtbank voor de hand. Het behoorde tot de algemene vakkennis van de gemiddelde vakman dat immersielithografie de meest veelbelovende weg was om de resolutie te verbeteren, gelet op vooral een veelheid aan presentaties over de voordelen hiervan in de jaren net voor de prioriteitsdatum. Op de prioriteitsdatum behoorde het eveneens tot de algemene vakkennis dat in de markt duidelijk een voorkeur bestond voor immersielithografie van het local fill principe. Dit wordt afgeleid uit een aantal overgelegde presentaties van ASML, Canon en Nikon van januari 2004. Ten slotte behoorde het tot de algemene vakkennis dat de temperatuur van het local fill immersiewater zeer precies beheerst moest worden door een temperateratuurbeheersing-eenheid. Dit alles leidt tot de conclusie dat de vakman om de resolutie te verbeteren van de lithografiemachine van US 165 een temperatuuraanpassings-eenheid als bedoeld in de kenmerken 1.e en 1.g van conclusie 1 zou opnemen. Het is niet in geschil dat hij bij die (voordehand liggende) keuze voor local fill immersielithografie de verschilmaatregelen 1.a (deels) en 1.d zou toepassen. De rechtbank concludeert dat de gemiddelde vakman derhalve zonder inventieve denkarbeid immersielithografie van het local fill type zou toepassen om de resolutie van de droge lithografiemachine van US 165 te verbeteren, met toepassing van alle verschilkenmerken, om op de in conclusie 1 van EP 595 uit te komen.
Nikon heeft dit alles onvoldoende weersproken. Conclusie 1 is dus niet-inventief. De volgconclusies 2, 3, 5 t/m 8 en 16 t/m 20 zien op aanvullende kenmerken die in wezen zien op het voorkomen van warmteoverdracht tussen immersiewater en wafer. Deze afstemming behoort tot de algemene vakkennis. Ten aanzien van conclusie 21 is door Nikon ter zitting gesteld dat de geldigheid niet is betwist. Dat is vervolgens alsnog door ASML gedaan. Het bezwaar van Nikon hiertegen wordt verworpen, omdat Nikon niet heeft aangegeven op welke wijze zij in haar verdediging is geschaad. Het inbreukverbod wordt afgewezen. In reconventie worden de conclusies 1-3, 5-8, 12, 13 en 15-21 vernietigd. Het octrooi wordt dus gedeeltelijk vernietigd, aangezien niet is toegelicht waarom de overige conclusies vernietigd moeten worden.
IEPT20180822, Rb Den Haag, Nikon v ASML
